文献
J-GLOBAL ID:200902238279342273
整理番号:05A0708460
ラジカル増感原子層蒸着による酸化アルミニウムの低温蒸着
Low-Temperature Deposition of Aluminum Oxide by Radical Enhanced Atomic Layer Deposition
著者 (4件):
NISKANEN Antti
(Univ. Helsinki, Helsinki, FIN)
,
ARSTILA Kai
(Univ. Helsinki, Helsinki, FIN)
,
RITALA Mikko
(Univ. Helsinki, Helsinki, FIN)
,
LESKELAE Markku
(Univ. Helsinki, Helsinki, FIN)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
152
号:
7
ページ:
F90-F93
発行年:
2005年
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)