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文献
J-GLOBAL ID：200902238442135833
整理番号：04A0785939
SiNxによって不動態化されたCuの単一ダマシン線におけるエレクトロマイグレーション誘起ボイドの成長動力学
Electromigration-Induced Void Growth Kinetics in SiNx-Passivated Single-Damascene Cu Lines
YOKOGAWA S
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43 号： 9A ページ： 5990-5996 発行年： 2004年09月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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