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文献
J-GLOBAL ID：200902238669880667
整理番号：04A0395254
dc反応性マグネトロンコスパッタリングにより作製した硬質ナノ複合材料Ti-Cu-N薄膜
Hard nanocomposite Ti-Cu-N films prepared by d.c. reactive magnetron co-sputtering
LI Z G
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MIYAKE S
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KUMAGAI M
(Kanagawa Industrial Technol. Res. Inst., Kanagawa, JPN)
,
SAITO H
(Kanagawa High-Technol. Foundation, Kanagawa, JPN)
,
MURAMATSU Y
(Kanagawa High-Technol. Foundation, Kanagawa, JPN)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 183 号： 1 ページ： 62-68 発行年： 2004年05月01日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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