文献
J-GLOBAL ID:200902238738297251
整理番号:03A0637713
プラズマ支援分子線エピタキシーによって成長したAlN/GaNヘテロ構造中の分極電荷により誘起された2次元電子ガス
Two-dimensional electron gases induced by polarization charges in AlN/GaN heterostructure grown by plasma-assisted molecular-beam epitaxy
著者 (4件):
JEGANATHAN K
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
IDE T
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
SHIMIZU M
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
OKUMURA H
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
94
号:
5
ページ:
3260-3263
発行年:
2003年09月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)