文献
J-GLOBAL ID:200902238864482382
整理番号:03A0480387
多重短周期デルタ層を用いたSIMS極浅深さプロフィル分析におけるスパッタリング速度変化の評価
Evaluation of the sputtering rate variation in SIMS ultra-shallow depth profiling using multiple short-period delta layers
著者 (6件):
HOMMA Y
(Nippon Telegraph and Telephone Corp., Kanagawa, JPN)
,
TAKENAKA H
(NTT Advanced Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
,
TOUJOU F
(Matsushita Technores. Inc., Osaka, JPN)
,
TAKANO A
(NTT Advanced Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
,
HAYASHI S
(Nippon Steel Corp., Chiba, JPN)
,
SHIMIZU R
(Osaka Inst. Technol., Osaka, JPN)
資料名:
Surface and Interface Analysis
(Surface and Interface Analysis)
巻:
35
号:
6
ページ:
544-547
発行年:
2003年06月
JST資料番号:
E0709A
ISSN:
0142-2421
CODEN:
SIANDQ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)