文献
J-GLOBAL ID:200902239169398369
整理番号:06A0452743
反応性RFスパッタリングによる熱変色性VO2膜の作製への基板バイアス効果
Substrate bias effect on the fabrication of thermochromic VO2 films by reactive RF sputtering
著者 (2件):
MIYAZAKI H
(Shimane Univ., Shimane, JPN)
,
YASUI I
(United Nations Univ., Tokyo, JPN)
資料名:
Journal of Physics. D. Applied Physics
(Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻:
39
号:
10
ページ:
2220-2223
発行年:
2006年05月21日
JST資料番号:
B0092B
ISSN:
0022-3727
CODEN:
JPAPBE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)