文献
J-GLOBAL ID:200902239341537708
整理番号:09A0152100
Cu(Ti)・低k試料における自己成形Tiリッチ界面層のキャラクタリゼーション
Characterization of Self-Formed Ti-Rich Interface Layers in Cu(Ti)/Low-k Samples
著者 (7件):
KOHAMA Kazuyuki
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
ITO Kazuhiro
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TSUKIMOTO Susumu
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
MORI Kenichi
(Renesas Technol. Corp., Hyogo, JPN)
,
MAEKAWA Kazuyoshi
(Renesas Technol. Corp., Hyogo, JPN)
,
MURAKAMI Masanori
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
MURAKAMI Masanori
(Ritsumeikan Trust, Kyoto, JPN)
資料名:
Journal of Electronic Materials
(Journal of Electronic Materials)
巻:
37
号:
8
ページ:
1148-1157
発行年:
2008年08月
JST資料番号:
D0277B
ISSN:
0361-5235
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)