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文献
J-GLOBAL ID：200902240176498474
整理番号：05A0362783
全反射蛍光X線法によるシリコンウェハ表面汚染の全面迅速マッピング分析
Rapid Entire-Surface Mapping of Metal Contaminations on Silicon Wafers by Sweeping-Total Reflection X-Ray Fluorescence Spectroscopy (Sweeping-TXRF)
森良弘
(シルトロニック・ジャパン)
,
上村賢一
(シルトロニック・ジャパン)
,
河野浩
(理学電機工業)
,
山上基行
(理学電機工業)
,
清水康裕
(理学電機工業)
,
鬼塚義延
(理学電機工業)
,
飯塚悦功
(東大 大学院工学系研究科)
資料名：
X線分析の進歩
(X線工業分析)
巻： 36 ページ： 275-284 発行年： 2005年03月31日
JST資料番号： Z0547B ISSN： 0911-7806 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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