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文献
J-GLOBAL ID：200902240563750963
整理番号：04A0344257
放射光光電子分光によるHfO2膜の化学結合状態:UHV中アニール効果
豊田智史
(東大 工)
,
岡林潤
(東大 工)
,
組頭広志
(東大 工)
,
尾嶋正治
(東大 工)
,
小野寛太
(KEK)
,
丹羽正昭
(STARC)
,
臼田宏治
(STARC)
,
LIU G L
(STARC)
資料名：
応用物理学関係連合講演会講演予稿集
(Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 51st 号： 2 ページ： 873 発行年： 2004年03月28日
JST資料番号： Y0054A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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