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J-GLOBAL ID：200902240728780862 整理番号：03A0321713

ナノメートル領域におけるソフトリソグラフィー造型及び印刷用に設計した光硬化性ポリジメチルシロキサン化学

A Photocurable Poly(dimethylsiloxane) Chemistry Designed for Soft Lithographic Molding and Printing in the Nanometer Regime.

著者 (2件)：

CHOI K M

(Lucent Technol., New Jersey)

ROGERS J A

(Lucent Technol., New Jersey)

資料名：

Journal of the American Chemical Society (Journal of the American Chemical Society)

巻： 125 号： 14 ページ： 4060-4061 発行年： 2003年04月09日
JST資料番号： C0254A ISSN： 0002-7863 CODEN： JACSAT 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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