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文献
J-GLOBAL ID：200902240895636471
整理番号：07A0834210
Zr-Al合金膜の陽極酸化による高信頼性を持った薄膜の作製
Preparation of Thin-Film Capacitor with High Reliability by Anodization of Zr-Al Alloy Film
MIKUNI Naohiro
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
SHIBATA Tomoharu
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
SHINKAI Satoko
(Kyusyu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN)
,
SASAKI Katsutaka
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
YANAGISAWA Hideto
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
YAMANE Misao
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
ABE Yoshio
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 46 号： 8A ページ： 5249-5253 発行年： 2007年08月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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