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文献
J-GLOBAL ID:200902241459709036   整理番号:06A1031076

Pt/(Y,Tb)MnO3/HfO2/Si構造用HfO2層の小型化

Downsizing of HfO2 Layer for Pt/(Y,Yb)MnO3/HfO2/Si Structure
著者 (4件):
SUZUKI Kazuyuki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
NISHIZAWA Kaori
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
MIKI Takeshi
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
KATO Kazumi
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

巻: 45  号: 9B  ページ: 7332-7335  発行年: 2006年09月30日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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