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文献
J-GLOBAL ID：200902241551961884
整理番号：06A0493027
半導体ナノ技術における金属汚染制御用の全反射X線蛍光分析測定の動向
Trends in total reflection X-ray fluorescence spectrometry for metallic contamination control in semiconductor nanotechnology
HELLIN David
(Interuniversity Micro-Electronics Center (IMEC), SPDT, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, BEL)
,
HELLIN David
(KULeuven, Dep. of Chemistry, Celestijnenlaan 200F, B-3001 Leuven, BEL)
,
DE GENDT Stefan
(Interuniversity Micro-Electronics Center (IMEC), SPDT, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, BEL)
,
DE GENDT Stefan
(KULeuven, Dep. of Chemistry, Celestijnenlaan 200F, B-3001 Leuven, BEL)
,
VALCKX Nick
(KULeuven, Dep. of Chemistry, Celestijnenlaan 200F, B-3001 Leuven, BEL)
,
MERTENS Paul W.
(Interuniversity Micro-Electronics Center (IMEC), SPDT, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, BEL)
,
VINCKIER Chris
(KULeuven, Dep. of Chemistry, Celestijnenlaan 200F, B-3001 Leuven, BEL)
資料名：
Spectrochimica Acta. Part B. Atomic Spectroscopy
(Spectrochimica Acta. Part B. Atomic Spectroscopy)
巻： 61 号： 5 ページ： 496-514 発行年： 2006年05月
JST資料番号： B0793A ISSN： 0584-8547 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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