文献
J-GLOBAL ID:200902241683994978
整理番号:04A0196520
極端紫外線リソグラフィーのための紫外線マスク計測法
Actinic mask metrology for extreme ultraviolet lithography
著者 (9件):
KINOSHITA H
(Himeji Inst. Technol., Hyougo, JPN)
,
HAGA T
(NTT Microsystem Integration Lab., Kanagawa, JPN)
,
HAMAMOTO K
(Himeji Inst. Technol., Hyougo, JPN)
,
TAKADA S
(Himeji Inst. Technol., Hyougo, JPN)
,
KAZUI N
(Himeji Inst. Technol., Hyougo, JPN)
,
KAKUNAI S
(Himeji Inst. Technol., Hyougo, JPN)
,
SHOKI T
(Hoya Corp., Tokyo, JPN)
,
ENDO M
(Matushita Electrical Industrial, Kyoto, JPN)
,
WATANABE T
(Himeji Inst. Technol., Hyougo, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
22
号:
1
ページ:
264-267
発行年:
2004年01月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)