文献
J-GLOBAL ID:200902242482011484
整理番号:03A0403112
反応性マグネトロン・スパツタリングを利用するTiO2膜の鉄ドーピングによる表面改質
Surface modification of TiO2 film by iron doping using reactive magnetron sputtering.
著者 (4件):
ZHANG W
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
,
LI Y
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
,
ZHU S
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
,
WANG F
(Inst. Metal Res., Chinese Acad. Sci., Shenyang, CHN)
資料名:
Chemical Physics Letters
(Chemical Physics Letters)
巻:
373
号:
3/4
ページ:
333-337
発行年:
2003年05月20日
JST資料番号:
B0824A
ISSN:
0009-2614
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)