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文献
J-GLOBAL ID：200902242899385700
整理番号：03A0692731
RFプラズマ中の酸素分圧による酸化けい素粒子の構造制御
Structural Control of Silicon Oxide Particles by Oxygen Partial Pressure in RF Plasma
SATO T
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
,
TAKEDA A
(ISI. Ltd., Saitama, JPN)
,
KIMURA Y
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
,
SUZUKI H
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
,
SAITO Y
(Kyoto Inst. of Technol., Kyoto, JPN)
,
KAITO C
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42 号： 9A ページ： 5896-5897 発行年： 2003年09月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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