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文献
J-GLOBAL ID：200902243239594117
整理番号：08A0914572
ZrO2/GeO2ゲートスタックの非常に高κのジルコニア相でにおけるゲルマニウム誘起安定化
Germanium-induced stabilization of a very high-k zirconia phase in ZrO2/GeO2 gate stacks
TSIPAS P.
(MBE Lab., National Center for Scientific Res. Demokritos, 153 10 Athens, GRC)
,
VOLKOS S. N.
(MBE Lab., National Center for Scientific Res. Demokritos, 153 10 Athens, GRC)
,
SOTIROPOULOS A.
(MBE Lab., National Center for Scientific Res. Demokritos, 153 10 Athens, GRC)
,
GALATA S. F.
(MBE Lab., National Center for Scientific Res. Demokritos, 153 10 Athens, GRC)
,
MAVROU G.
(MBE Lab., National Center for Scientific Res. Demokritos, 153 10 Athens, GRC)
,
TSOUTSOU D.
(MBE Lab., National Center for Scientific Res. Demokritos, 153 10 Athens, GRC)
,
PANAYIOTATOS Y.
(MBE Lab., National Center for Scientific Res. Demokritos, 153 10 Athens, GRC)
,
DIMOULAS A.
(MBE Lab., National Center for Scientific Res. Demokritos, 153 10 Athens, GRC)
,
MARCHIORI C.
(IBM Res. GmbH, Zurich Res. Lab., Saeumerstrasse 4, 8803-Rueschlikon, CHE)
,
FOMPEYRINE J.
(IBM Res. GmbH, Zurich Res. Lab., Saeumerstrasse 4, 8803-Rueschlikon, CHE)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 93 号： 8 ページ： 082904 発行年： 2008年08月25日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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