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文献
J-GLOBAL ID：200902243462686520
整理番号：03A0413681
簡単な浸漬被覆プロセスで作製した光学バンドギャップ及び超低誘電率材料
Optical band gap and ultralow dielectric constant materials prepared by a simple dip coating process
ISKANDAR F
(Japan Chemical Innovation Inst., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
ABDULLAH M
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
YODEN H
(Japan Chemical Innovation Inst., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
OKUYAMA K
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 93 号： 11 ページ： 9237-9242 発行年： 2003年06月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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