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文献
J-GLOBAL ID：200902244043237762
整理番号：06A1033656
高圧キセノン及び水素添加したキセノン中の電子移動度に対する横拡散係数の比
Ratio of Transverse Diffusion Coefficient to Mobility of Electrons in High-Pressure Xenon and Xenon Doped with Hydrogen
KOBAYASHI Shingo
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
HASEBE Nobuyuki
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
HOSOJIMA Takehiro
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
ISHIZAKI Takeshi
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
IWAMATSU Kazuhiro
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
MIMURA Mitsuteru
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
MIYACHI Takashi
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
MIYAJIMA Mitsuhiro
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
PUSHKIN Kirill
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
TEZUKA Chikara
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
DOKE Tadayoshi
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
KOBAYASHI Masanori
(Japan Aerospace Exploration Agency, Ibaraki, JPN)
,
SHIBAMURA Eido
(Saitama Prefectural Univ., Saitama, JPN)
,
ISHIZUKA Akihiro
(Japan Atomic Energy Agency, Fukui, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 45 号： 10A ページ： 7894-7900 発行年： 2006年10月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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