文献
J-GLOBAL ID:200902244157666434
整理番号:08A0919157
ガス支援集束電子ビームおよびイオンビーム加工と製作
Gas-assisted focused electron beam and ion beam processing and fabrication
著者 (3件):
UTKE Ivo
(EMPA, Swiss Federal Inst. of Materials Testing and Res., Feuerwerkerstrasse 39, CH-3602 Thun, CHE)
,
HOFFMANN Patrik
(Advanced Photonics Lab., Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, CH-1015 Lausanne, CHE)
,
MELNGAILIS John
(Dep. of Electrical and Computer Engineering, Inst. for Res. in Electronics and Applied Physics, Univ. of Maryland ...)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
26
号:
4
ページ:
1197
発行年:
2008年07月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)