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文献
J-GLOBAL ID:200902244157666434   整理番号:08A0919157

ガス支援集束電子ビームおよびイオンビーム加工と製作

Gas-assisted focused electron beam and ion beam processing and fabrication
著者 (3件):
UTKE Ivo
(EMPA, Swiss Federal Inst. of Materials Testing and Res., Feuerwerkerstrasse 39, CH-3602 Thun, CHE)
HOFFMANN Patrik
(Advanced Photonics Lab., Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, CH-1015 Lausanne, CHE)
MELNGAILIS John
(Dep. of Electrical and Computer Engineering, Inst. for Res. in Electronics and Applied Physics, Univ. of Maryland ...)

資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)

巻: 26  号:ページ: 1197  発行年: 2008年07月 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 1071-1023  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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