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文献
J-GLOBAL ID：200902244687816038
整理番号：04A0504118
248nm光曝露時の化学増幅レジストからのガス放出のその場測定
In-situ Measurement of Outgassing from Chemically Amplified Resist during Exposure to 248nm Light
SEKIGUCHI A
(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)
,
ISONO M
(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)
,
KONO Y
(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)
,
SENSU Y
(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 17 号： 1 ページ： 107-113 発行年： 2004年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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