文献
J-GLOBAL ID:200902244732273970
整理番号:09A0753684
Faradayケージを用いるSiの斜め方向プラズマエッチング
Oblique-Directional Plasma Etching of Si Using a Faraday Cage
著者 (6件):
LEE Jin-Kwan
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
LEE Seung-Haeng
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
MIN Jae-Ho
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
JANG Il-Yong
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
KIM Chang-Koo
(Ajou Univ., Suwon, KOR)
,
MOON Sang Heup
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
156
号:
7
ページ:
D222-D225
発行年:
2009年
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)