文献
J-GLOBAL ID:200902245489895999
整理番号:05A0586452
UVレーザ照射を用いるポジティブトーンジアゾナフトキノン/ノボラックレジストの除去
Removal of Positive-tone Diazonaphthoquinone/Novolak Resist Using UV Laser Irradiation
著者 (3件):
HORIBE Hideo
(Kochi National Coll. Technol., Kochi, JPN)
,
KAMIMURA Tomosumi
(Osaka Inst. Technol., Osaka, JPN)
,
YOSHIDA Kunio
(Osaka Inst. Technol., Osaka, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
18
号:
2
ページ:
181-185
発行年:
2005年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)