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文献
J-GLOBAL ID：200902245611419109
整理番号：03A0506096
反応性XeF2環境に曝露した多結晶AlN表面のX線光電子分光研究
X-ray photoelectron spectroscopy of polycrystalline AlN surface exposed to the reactive environment of XeF2
WATANABE M
(NGK Insulators Ltd., Nagoya, JPN)
,
MORI Y
(NGK Insulators Ltd., Nagoya, JPN)
,
ISHIKAWA T
(NGK Insulators Ltd., Nagoya, JPN)
,
IIDA T
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
AKIYAMA K
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
SAWABE K
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
SHOBATAKE K
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 217 号： 1/4 ページ： 82-87 発行年： 2003年07月15日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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