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文献
J-GLOBAL ID：200902245738362980
整理番号：08A0420350
SiO2-ZrO2系におけるRFスパッタX線非晶質膜の作製と性質
Preparation and properties of radiofrequency sputtered X-ray amorphous films in the system SiO2-ZrO2
SAWA Akira
(Graduate School of Sci., Kyoto Univ., Kitashirakawa-Oiwakecho, Sakyo-ku, Kyoto 606-8502, JPN)
,
NAKANISHI Kazuki
(Graduate School of Sci., Kyoto Univ., Kitashirakawa-Oiwakecho, Sakyo-ku, Kyoto 606-8502, JPN)
,
HANADA Teiichi
(Graduate School of Sci., Kyoto Univ., Kitashirakawa-Oiwakecho, Sakyo-ku, Kyoto 606-8502, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 516 号： 15 ページ： 4665-4672 発行年： 2008年06月02日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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