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文献
J-GLOBAL ID：200902245956334939
整理番号：03A0728332
rf反応性スパッタリングにより作製したZr-Si-N膜の微細構造及び機械的性質に及ぼすスパッタリング条件の影響
Influence of sputtering conditions on microstructure and mechanical properties of Zr-Si-N films prepared by radio-frequency-reactive sputtering
ZHOU M
(Osaka Univ., Ibaraki, JPN)
,
NOSE M
(Takaoka National Coll., Takaoka, JPN)
,
DEGUCHI Y
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
MAE T
(Toyama National Coll. Technol., Toyama, JPN)
,
NOGI K
(Osaka Univ., Ibaraki, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 21 号： 5 ページ： 1791-1795 発行年： 2003年09月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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