文献
J-GLOBAL ID:200902246018964423
整理番号:05A0637241
CHF3プラズマ曝露によるナノ多孔性シリカ中の高分子浸透と細孔密封
Polymer Penetration and Pore Sealing in Nanoporous Silica by CHF3 Plasma Exposure
著者 (7件):
CHO Woojin
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York, USA)
,
SAXENA Ravi
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York, USA)
,
RODRIGUEZ Oscar
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York, USA)
,
OJHA Manas
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York, USA)
,
ACHANTA Ravi
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York, USA)
,
PLAWSKY Joel L.
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York, USA)
,
GILL William N.
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York, USA)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
152
号:
6
ページ:
F61-F65
発行年:
2005年
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)