文献
J-GLOBAL ID:200902246027778225
整理番号:04A0002765
反応性マグネトロンスパッタリング法で蒸着したCr1-xAlxN薄膜の耐高温酸化性
High-temperature oxidation resistance of Cr1-xAlxN thin films deposited by reactive magnetron sputtering
著者 (4件):
BANAKH O
(Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Lausanne, CHE)
,
SCHMID P E
(Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Lausanne, CHE)
,
SANJINES R
(Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Lausanne, CHE)
,
LEVY F
(Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Lausanne, CHE)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
163/164
ページ:
57-61
発行年:
2003年01月30日
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)