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文献
J-GLOBAL ID:200902246069553029   整理番号:06A0540004

インコネル基板上に作製した配向性 AlN 薄膜の高圧応答性と高温耐久性

High Pressure Response and High Temperature Durability of Aluminum Nitride Thin Films Prepared on Inconel Substrates
著者 (6件):
大石康宣
(産業技術総合研究所実環境計測・診断研究ラボ)
岸和司
(産業技術総合研究所実環境計測・診断研究ラボ)
秋山守人
(産業技術総合研究所実環境計測・診断研究ラボ)
野間弘昭
(産業技術総合研究所実環境計測・診断研究ラボ)
田原竜夫
(産業技術総合研究所実環境計測・診断研究ラボ)
西島大
(産業技術総合研究所実環境計測・診断研究ラボ)

資料名:
日本セラミックス協会学術論文誌  (Journal of the Ceramic Society of Japan)

巻: 114  号: 1331  ページ: 657-659 (J-STAGE)  発行年: 2006年 
JST資料番号: F0382A  ISSN: 0914-5400  CODEN: JCSJEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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