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文献
J-GLOBAL ID：200902246069553029
整理番号：06A0540004
インコネル基板上に作製した配向性 AlN 薄膜の高圧応答性と高温耐久性
High Pressure Response and High Temperature Durability of Aluminum Nitride Thin Films Prepared on Inconel Substrates
大石康宣
(産業技術総合研究所実環境計測・診断研究ラボ)
,
岸和司
(産業技術総合研究所実環境計測・診断研究ラボ)
,
秋山守人
(産業技術総合研究所実環境計測・診断研究ラボ)
,
野間弘昭
(産業技術総合研究所実環境計測・診断研究ラボ)
,
田原竜夫
(産業技術総合研究所実環境計測・診断研究ラボ)
,
西島大
(産業技術総合研究所実環境計測・診断研究ラボ)
資料名：
日本セラミックス協会学術論文誌
(Journal of the Ceramic Society of Japan)
巻： 114 号： 1331 ページ： 657-659 (J-STAGE) 発行年： 2006年
JST資料番号： F0382A ISSN： 0914-5400 CODEN： JCSJEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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