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文献
J-GLOBAL ID：200902246075869496
整理番号：03A0836895
低誘電率から極低誘電率のSiCOH膜の構造 Fourier変換赤外分光による特性評価
Structure of low dielectric constant to extreme low dielectric constant SiCOH films: Fourier transform infrared spectroscopy characterization
GRILL A
(IBM T.J. Watson Res. Center, New York)
,
NEUMAYER D A
(IBM T.J. Watson Res. Center, New York)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 94 号： 10 ページ： 6697-6707 発行年： 2003年11月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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