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文献
J-GLOBAL ID：200902246110416629
整理番号：04A0098350
光橋かけ-インプリントリソグラフィーによる三層レジストの作製
Fabrication of trilayer resist using photocuring-imprint lithography
KIM S H
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
HIROSHIMA H
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
INOUE S
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
KURASHIMA Y
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
KOMURO M
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 21 号： 6 ページ： 3144-3148 発行年： 2003年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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