文献
J-GLOBAL ID:200902246402274116
整理番号:03A0739224
自己集合ブロック共重合体パターンを持つ実現ナノテクノロジー
Enabling nanotechnology with self assembled block copolymer patterns
著者 (3件):
PARK C
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
YOON J
(Massachusetts Inst. Technol., MA, USA)
,
THOMAS E L
(Massachusetts Inst. Technol., MA, USA)
資料名:
Polymer
(Polymer)
巻:
44
号:
22
ページ:
6725-6760
発行年:
2003年10月
JST資料番号:
D0472B
ISSN:
0032-3861
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)