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文献
J-GLOBAL ID：200902246546548970
整理番号：08A0996357
磁場支援陽極酸化を用いたシリコンにおける100nmスケール周期構造の形成機構
Formation Mechanism of 100-nm-Scale Periodic Structures in Silicon Using Magnetic-Field-Assisted Anodization
HIPPO Daihei
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
HIPPO Daihei
(JST-SORST, Saitama, JPN)
,
NAKAMINE Yoshifumi
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
URAKAWA Kei
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
,
TSUCHIYA Yoshishige
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
TSUCHIYA Yoshishige
(Univ. Southampton, Southampton, GBR)
,
TSUCHIYA Yoshishige
(JST-SORST, Saitama, JPN)
,
MIZUTA Hiroshi
(Univ. Southampton, Southampton, GBR)
,
MIZUTA Hiroshi
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
MIZUTA Hiroshi
(JST-SORST, Saitama, JPN)
,
KOSHIDA Nobuyoshi
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
,
KOSHIDA Nobuyoshi
(JST-SORST, Saitama, JPN)
,
ODA Shunri
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
ODA Shunri
(JST-SORST, Saitama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 47 号： 9 Issue 1 ページ： 7398-7402 発行年： 2008年09月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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