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文献
J-GLOBAL ID:200902246546548970   整理番号:08A0996357

磁場支援陽極酸化を用いたシリコンにおける100nmスケール周期構造の形成機構

Formation Mechanism of 100-nm-Scale Periodic Structures in Silicon Using Magnetic-Field-Assisted Anodization
著者 (14件):
HIPPO Daihei
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
HIPPO Daihei
(JST-SORST, Saitama, JPN)
NAKAMINE Yoshifumi
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
URAKAWA Kei
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
TSUCHIYA Yoshishige
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
TSUCHIYA Yoshishige
(Univ. Southampton, Southampton, GBR)
TSUCHIYA Yoshishige
(JST-SORST, Saitama, JPN)
MIZUTA Hiroshi
(Univ. Southampton, Southampton, GBR)
MIZUTA Hiroshi
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
MIZUTA Hiroshi
(JST-SORST, Saitama, JPN)
KOSHIDA Nobuyoshi
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
KOSHIDA Nobuyoshi
(JST-SORST, Saitama, JPN)
ODA Shunri
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
ODA Shunri
(JST-SORST, Saitama, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)

巻: 47  号: 9 Issue 1  ページ: 7398-7402  発行年: 2008年09月25日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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