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J-GLOBAL ID：200902246684127110 整理番号：06A0249658

スパッタリング法を用いたキトサンの被膜化に関する研究

Study on preparation of chitosan layers by sputtering

著者 (4件)：

小西友英

(京都工繊大)

倉鋪憲

(京都工繊大)

相羽誠一

(産業技術総合研環境化学技術研究部門)

岩本正治

(京都工繊大)

資料名：

キチン・キトサン研究 (Chitin and Chitosan Research)

巻： 12 号： 1 ページ： 7-15 発行年： 2006年04月01日
JST資料番号： L2321A ISSN： 1340-9778 CODEN： KKKEFB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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