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文献
J-GLOBAL ID:200902247452343344   整理番号:04A0470740

248nm深UVリソグラフィーを用いたSOIベースのフォトニック結晶導波路の最適設計と作製

Optimization Design and Fabrication of Photonic Crystal Waveguides Based on SOI Using 248nm Deep UV Lithography
著者 (4件):
XIE L
(Tsinghua Univ., Beijing, CHN)
ZHANG Y
(Tsinghua Univ., Beijing, CHN)
PENG X
(Tsinghua Univ., Beijing, CHN)
XIE S
(Tsinghua Univ., Beijing, CHN)

資料名:
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

巻: 5280  号: Pt.2  ページ: 798-804  発行年: 2004年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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