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文献
J-GLOBAL ID：200902247581907505
整理番号：08A1132711
ansa-メタロセンジルコニウム及びハフニウム前駆体を用いた液体注入MOCVD及びALDによるZrO2及びHfO2薄膜の析出
Deposition of ZrO2 and HfO2 thin films by liquid injection MOCVD and ALD using ansa-metallocene zirconium and hafnium precursors
BLACK Kate
(Univ. Liverpool, Liverpool, GBR)
,
ASPINALL Helen C.
(Univ. Liverpool, Liverpool, GBR)
,
JONES Anthony C.
(Univ. Liverpool, Liverpool, GBR)
,
PRZYBYLAK Katarzyna
(Univ. Liverpool, Liverpool, GBR)
,
BACSA John
(Univ. Liverpool, Liverpool, GBR)
,
CHALKER Paul R.
(Univ. Liverpool, Liverpool, GBR)
,
TAYLOR Stephen
(Univ. Liverpool, Liverpool, GBR)
,
ZHAO Ce Zhou
(Univ. Liverpool, Liverpool, GBR)
,
ELLIOTT Simon D.
(Tyndall National Inst., Cork, IRL)
,
ZYDOR Aleksandra
(Tyndall National Inst., Cork, IRL)
,
HEYS Peter N.
(SAFC Hitech, Wirral, GBR)
資料名：
Journal of Materials Chemistry
(Journal of Materials Chemistry)
巻： 18 号： 38 ページ： 4561-4571 発行年： 2008年10月14日
JST資料番号： W0204A ISSN： 0959-9428 CODEN： JMACEP 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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