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J-GLOBAL ID：200902247782521834 整理番号：09A0713475

電子ビームリソグラフィーにおけるフォギング電子のシミュレーション

Simulation of Fogging Electrons in Electron Beam Lithography

著者 (2件)：

KOTERA Masatoshi

(Osaka Inst. of Technol., Osaka, JPN)

MAEKAWA Takeshi

(Osaka Inst. of Technol., Osaka, JPN)

資料名：

Japanese Journal of Applied Physics (Japanese Journal of Applied Physics)

巻： 48 号： 6,Issue 2 ページ： 06FB05.1-06FB05.4 発行年： 2009年06月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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