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文献
J-GLOBAL ID：200902247922836474
整理番号：07A0820271
熱安定金属-絶縁体-金属コンデンサを可能にするSiO2混合による高κ正方晶系HfO2の安定化
Stabilization of higher-κ tetragonal HfO2 by SiO2 admixture enabling thermally stable metal-insulator-metal capacitors
BOESCKE T. S.
(SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741)
,
GOVINDARAJAN S.
(SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741)
,
KIRSCH P. D.
(SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741)
,
HUNG P. Y.
(SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741)
,
KRUG C.
(SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741)
,
LEE B. H.
(SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741)
,
HEITMANN J.
(Qimonda Dresden GmbH & Co. OHG, Koenigsbruecker Str. 180, 01099 Dresden, DEU)
,
SCHROEDER U.
(Qimonda Dresden GmbH & Co. OHG, Koenigsbruecker Str. 180, 01099 Dresden, DEU)
,
PANT G.
(Dep. of Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, Richardson, Texas 75080)
,
GNADE B. E.
(Dep. of Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, Richardson, Texas 75080)
,
KRAUTSCHNEIDER W. H.
(Technical Univ. of Hamburg-Harburg, Dep. of Nanoelectronics, 21071 Hamburg, DEU)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 91 号： 7 ページ： 072902-072902-3 発行年： 2007年08月13日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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