前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：200902248058494457
整理番号：03A0284292
シュードモルフィック・シリコンゲルマニウム/シリコンヘテロ構造への酸素注入による緩和シリコンゲルマニウム-オン-絶縁体基板
Relaxed silicon-germanium-on-insulator substrates by oxygen implantation into pseudomorphic silicon germanium/silicon heterostructure
AN Z
(City Univ. Hong Kong, Hong Kong, CHN)
,
WU Y
(Shanghai Inst. Microsystem and Information Technol., Shanghai, CHN)
,
ZHANG M
(Shanghai Inst. Microsystem and Information Technol., Shanghai, CHN)
,
LIN C
(Shanghai Inst. Microsystem and Information Technol., Shanghai, CHN)
,
FU R K Y
(City Univ. Hong Kong, Hong Kong, CHN)
,
CHEN P
(City Univ. Hong Kong, Hong Kong, CHN)
,
CHU P K
(City Univ. Hong Kong, Hong Kong, CHN)
,
CHEUNG W Y
(Chinese Univ. Hong Kong, Hong Kong, CHN)
,
WONG S P
(Chinese Univ. Hong Kong, Hong Kong, CHN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 82 号： 15 ページ： 2452-2454 発行年： 2003年04月14日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。