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文献
J-GLOBAL ID：200902248233370766
整理番号：04A0600946
193nmにおける水イマーションリソグラフィーの開口数へのアプローチ
Approaching the numerical aperture of water-Immersion lithography at 193nm
SMITH B W
(Rochester Inst. Technol., NY)
,
BOUROV A
(Rochester Inst. Technol., NY)
,
FAN Y
(Rochester Inst. Technol., NY)
,
ZAVYALOVA L
(Rochester Inst. Technol., NY)
,
LAFFERTY N
(Rochester Inst. Technol., NY)
,
CROPANESE F
(Rochester Inst. Technol., NY)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 5377 号： Pt.1 ページ： 273-284 発行年： 2004年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 文献レビュー 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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