文献
J-GLOBAL ID:200902248233849557
整理番号:09A0500836
プラズマ増進化学蒸着によるケイ素含有ダイヤモンド状炭素膜の製膜
Deposition of silicon-containing diamond-like carbon films by plasma-enhanced chemical vapour deposition
著者 (6件):
BABA K.
(Applied Technol. Div., Industrial Technol. Center of Nagasaki, 2-1303-8, Ikeda, Omura, Nagasaki 856-0026, JPN)
,
BABA K.
(Graduate School of Sci. and Technol., Nagasaki Univ., 1-14, Bunkyo, Nagasaki, Nagasaki 852-8131, JPN)
,
HATADA R.
(Applied Technol. Div., Industrial Technol. Center of Nagasaki, 2-1303-8, Ikeda, Omura, Nagasaki 856-0026, JPN)
,
HATADA R.
(Dep. of Materials Sci., Technische Universitaet Darmstadt, Petersenstr. 23, Darmstadt 64287, DEU)
,
FLEGE S.
(Dep. of Materials Sci., Technische Universitaet Darmstadt, Petersenstr. 23, Darmstadt 64287, DEU)
,
ENSINGER W.
(Dep. of Materials Sci., Technische Universitaet Darmstadt, Petersenstr. 23, Darmstadt 64287, DEU)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
203
号:
17-18
ページ:
2747-2750
発行年:
2009年06月15日
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)