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文献
J-GLOBAL ID：200902248249676032
整理番号：09A0910427
HfドープNb合金膜を使って作製した陽極酸化薄膜キャパシタの損失特性
Loss Properties of Anodized Thin-Film Capacitors Fabricated Using Hf-Doped Nb Alloy Films
SHIBATA Tomoharu
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
KIMIZAKI Hidefumi
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
SHINKAI Satoko
(Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN)
,
SASAKI Katsutaka
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
YANAGISAWA Hideto
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
YAMANE Misao
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
ABE Yoshio
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 48 号： 8,Issue 1 ページ： 085504.1-085504.4 発行年： 2009年08月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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