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文献
J-GLOBAL ID：200902248821810160
整理番号：03A0164184
Ar-O2混合ガス雰囲気下でSiO2/Al2O3基板上に作製されたPt/Ti薄膜の組織と抵抗温度係数の改善
Structures and Improvement of Temperature Coefficient of Resistance of Pt/Ti Thin Films Prepared on SiO2/Al2O3 by Sputtering under Argon-Oxygen Gas Mixtures.
半沢規子
(東京理大 基礎工)
,
友成健二
(三井金属 総研)
,
井上真一
(三井金属 総研)
,
山岸喜代志
(三井金属 総研)
,
青木善平
(三井金属 総研)
,
後藤芳彦
(東京理大 基礎工)
資料名：
表面技術
(Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 54 号： 2 ページ： 155-163 発行年： 2003年02月01日
JST資料番号： G0441B ISSN： 0915-1869 CODEN： HYGIEX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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