文献
J-GLOBAL ID:200902248980748425
整理番号:08A1030242
可変形状ビームパターン発生器を用いた32nmインプリントマスク
32nm imprint masks using variable shape beam pattern generators
著者 (10件):
SELINIDIS Kosta
(Molecular Imprints, Inc., TX, USA)
,
THOMPSON Ecron
(Molecular Imprints, Inc., TX, USA)
,
SCHMID Gerard
(Molecular Imprints, Inc., TX, USA)
,
STACEY Nick
(Molecular Imprints, Inc., TX, USA)
,
PEREZ Joseph
(Molecular Imprints, Inc., TX, USA)
,
MALTABES John
(Molecular Imprints, Inc., TX, USA)
,
RESNICK Douglas J.
(Molecular Imprints, Inc., TX, USA)
,
YEO Jeongho
(Samsung Electronics Co., Ltd, Gyeonggi-Do, KOR)
,
KIM Hoyeon
(Samsung Electronics Co., Ltd, Gyeonggi-Do, KOR)
,
EYNON Ben
(Samsung Electronics Co., Ltd, Gyeonggi-Do, KOR)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7028
号:
Pt.1
ページ:
70280R.1-70280R.10
発行年:
2008年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)