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文献
J-GLOBAL ID：200902248990697411
整理番号：09A1035361
水熱法によるエピタキシャルKNbO3厚膜の成長と特性評価
Growth of Epitaxial KNbO3 Thick Films by Hydrothermal Method and Their Characterization
ISHIKAWA Mutsuo
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
YAZAWA Keisuke
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
FUJISAWA Takashi
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
YASUI Shintaro
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
YAMADA Tomoaki
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
HASEGAWA Tomohito
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
MORITA Takeshi
(Univ. Tokyo, Chiba, JPN)
,
KUROSAWA Minoru
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
FUNAKUBO Hiroshi
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 48 号： 9,Issue 2 ページ： 09KA14.1-09KA14.5 発行年： 2009年09月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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