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文献
J-GLOBAL ID：200902249864371442
整理番号：05A0703589
非晶質水素化シリコンと非晶質高水素化シリコンの局在した伝導帯テイル状態での電子と正孔のホッピング輸送
Hopping Transport of Electrons and Holes at Localized Band Tail States in Amorphous Hydrogenated Silicon and Amorphous Heavy-Hydrogenated Silicon
OHNO Kazuhiro
(Nihon Univ., Tokyo, JPN)
,
MURAYAMA Kazuro
(Nihon Univ., Tokyo, JPN)
,
MATSUDA Akihisa
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 44 号： 7A ページ： 4764-4769 発行年： 2005年07月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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