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文献
J-GLOBAL ID：200902249914195101
整理番号：04A0504167
KrFフォトレジストにおけるラインエッジ粗さに対する酸拡散長さの影響
Influence of Acid Diffusion Length on Line Edge Roughness in KrF Photoresists
KIM J H
(Samsung Electronics Co., Ltd., Gyeonggi-Do, KOR)
,
KIM Y-H
(Samsung Electronics Co., Ltd., Gyeonggi-Do, KOR)
,
CHON S M
(Samsung Electronics Co., Ltd., Gyeonggi-Do, KOR)
,
NAGAI T
(JSR Corp., Mie, JPN)
,
NODA M
(JSR Corp., Mie, JPN)
,
YAMAGUCHI Y
(JSR Corp., Mie, JPN)
,
MAKITA Y
(JSR Corp., Mie, JPN)
,
NEMOTO H
(JSR Corp., Mie, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 17 号： 3 ページ： 379-384 発行年： 2004年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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