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文献
J-GLOBAL ID：200902250460843977
整理番号：04A0543857
室温ナノインプリントリソグラフィー用の二層レジスト
Bilayer Resist Method for Room-Temperature Nanoimprint Lithography
NAKAMATSU K
(Himeji Inst. of Technol., Hyogo, JPN)
,
WATANABE K
(Himeji Inst. of Technol., Hyogo, JPN)
,
KATASE T
(Meisyo Co., Hyougo, JPN)
,
HATTORI W
(NEC Fundamental Res. Labs, Tsukuba, JPN)
,
OCHIAI Y
(NEC Fundamental Res. Labs, Tsukuba, JPN)
,
MATSUO T
(Matsushita Electric Industrial Co., Kyoto, JPN)
,
SASAGO M
(Matsushita Electric Industrial Co., Kyoto, JPN)
,
NAMATSU H
(NTT Basic Res. Labs, Kanagawa, JPN)
,
KOMURO M
(AIST, Ibaraki, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43 号： 6B ページ： 4050-4053 発行年： 2004年06月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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