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文献
J-GLOBAL ID:200902250497106042   整理番号:07A0013652

ビーム誘起・励起効果 電子線照射効果を用いたナノ構造作製

Energetic beam effects and their applications Nanostructure fabrication using electron beam induced deposition
著者 (6件):
三石和貴
(物質・材料研究機構 超高圧電子顕微鏡ステーション)
LIU Zhiquan
(物質・材料研究機構 超高圧電子顕微鏡ステーション)
下条雅幸
(埼玉工大 先端科研)
竹口雅樹
(物質・材料研究機構 超高圧電子顕微鏡ステーション)
田中美代子
(物質・材料研究機構 超高圧電子顕微鏡ステーション)
古屋一夫
(物質・材料研究機構 超高圧電子顕微鏡ステーション)

資料名:
顕微鏡  (Microscopy)

巻: 41  号:ページ: 164-166  発行年: 2006年11月30日 
JST資料番号: Y0541A  ISSN: 1349-0958  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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