文献
J-GLOBAL ID:200902250497106042
整理番号:07A0013652
ビーム誘起・励起効果 電子線照射効果を用いたナノ構造作製
Energetic beam effects and their applications Nanostructure fabrication using electron beam induced deposition
著者 (6件):
三石和貴
(物質・材料研究機構 超高圧電子顕微鏡ステーション)
,
LIU Zhiquan
(物質・材料研究機構 超高圧電子顕微鏡ステーション)
,
下条雅幸
(埼玉工大 先端科研)
,
竹口雅樹
(物質・材料研究機構 超高圧電子顕微鏡ステーション)
,
田中美代子
(物質・材料研究機構 超高圧電子顕微鏡ステーション)
,
古屋一夫
(物質・材料研究機構 超高圧電子顕微鏡ステーション)
資料名:
顕微鏡
(Microscopy)
巻:
41
号:
3
ページ:
164-166
発行年:
2006年11月30日
JST資料番号:
Y0541A
ISSN:
1349-0958
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)