文献
J-GLOBAL ID:200902251782162343
整理番号:03A0507057
分子ビームエピタクシーによるInN成長に及ぼす薄膜極性の効果
Effects of film polarities on InN growth by molecular-beam epitaxy
著者 (2件):
XU K
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
YOSHIKAWA A
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
83
号:
2
ページ:
251-253
発行年:
2003年07月14日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)